Новости

По итогам приема в университет было зачислено 512 человек. Больше всего абитуриентов было зачислено в Институт интеллектуальных кибернетических систем. А самыми популярными направлениями подготовки в 2017 году стали «Атомные станции: проектирование, эксплуатация и инжиниринг», «Прикладная математика и физика», «Электроника и наноэлектроника» и «Лазерная техника и лазерные технологии».

Среди зачисленных более трети – победители или призеры профильных олимпиад, и это несмотря на то, что ребятам необходимо было подтвердить свою победу и набрать 75% по своему предмету на ЕГЭ. Стоит отметить, что число победителей олимпиад, поступающих в МИФИ, постоянно растет: за последние три года количество таких ребят увеличилось на 13%.

Практически каждый второй поступивший (45%) имеет аттестат о среднем образовании с отличием. Весомый процент новых студентов составляют выпускники Предуниверситария НИЯУ МИФИ, а также лицеев и школ, сотрудничающих с университетом – эффективность такого взаимодействия подтверждается подготовкой сильных, мотивированных к получению инженерного образования молодых людей. Большинство абитуриентов, несмотря на сохранившуюся возможность подать документы в пять высших учебных заведения, без раздумий приносили в МИФИ оригиналы документов.

Одно из ключевых достижений этого года – увеличение среднего балла единого государственного экзамена. В этом году ЕГЭ снова заметно вырос: 90,5 баллов по сравнению с 89 баллами в прошлом году. При этом средний балл повысился практически на все профильные направления/специальности.

НИЯУ МИФИ второй год подряд вел набор в рамках новой академической структуры НИЯУ МИФИ – в институты, ориентированные на подготовку специалистов по перспективным, прорывным направлениям науки. Открытие новых уникальных, в том числе двуязычных программ, привлечение к преподаванию ученых с мировым именем, передовые научные исследования в рамках этих подразделений привлекло в вуз сильных абитуриентов – средний балл ЕГЭ зачисленных по конкурсу заметно вырос. В частности, в Инженерно-физическом институте биомедицины он увеличился с 87,09 до 90,2, в Институте лазерных и плазменных технологий - с 89,83 до 90,3, в Институте интеллектуальных кибернетических систем - с 90,8 до 92,2.